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[据劳伦斯利弗莫尔国家实验室网站2017年4月6日报道] 劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)的研究人员开发了用于激光光学装置的新型抗反射涂层和新化学工艺。这标志着其在提升国家点火装置(NIF)192个巨型激光器能量方面取得重大突破,并降低了维修或更换对激光器运行至关重要的破损光学器件的成本。

新型抗反射涂层用以克服激光装置光栅碎片防护板背面的能量消耗性反射。光栅碎片盾牌防护板是NIF激光束进入靶室之前倒数第二个光学元件,可以使其他元件免受靶室环境影响,并协助诊断NIF激光束能量。

称为先进缓解工艺是一项获得专利的化学工艺,可通过去除杂质和吸收微裂缝,进一步保护光学元件,使光学元件表面更抗损伤。当这些缺陷受到激光照射时,就会在表面形成细小的损伤坑。要求先进缓解工艺和涂层减少损伤率,实现NIF高能量的可能性。(核信息院 蔡莉 哈琳)

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